直流磁控溅射法在Mg-Li合金表面沉积TiN薄膜提高合金抗腐性的研究

• 作者: 姜宏伟 彭鸿雁 薛晓宇 陈玉强 高福毅
• 来源期刊: 牡丹江师范学院学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 镁锂合金 TiN薄膜 抗腐蚀性
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1424字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6180.2010.01.007

摘要

TiN薄膜具有良好的抗腐蚀性,采用直流磁控溅射法低温下合成TiN薄膜可以节约能源,简化工艺.采用直流磁控溅射法在Mg-Li合金表面沉积TiN膜,TiN膜厚度约为1.6 μm,靶材为纯度99.99%的钛靶.用X射线衍射仪(XRD)来表征薄膜的成分,薄膜的表面形貌用扫描隧道显微镜(SEM)以及原子力电子显微镜(AFM)来表征.将样品放入浓度为3.5%的NaCl溶液中进行腐蚀实验,结果镀TiN膜的镁锂合金样品析氢速率很慢;用SEM进行腐蚀表面观察,未镀TiN薄膜的合金表面比镀TiN薄膜的合金表面腐蚀严重,说明在Mg-Li合金表面沉积TiN薄膜提高了镁锂合金的抗腐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭鸿雁	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省级重点实验室	29	94	6.0	8.0
2	陈玉强	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省级重点实验室	27	60	5.0	7.0
6	高福毅	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省级重点实验室	2	9	1.0	2.0
7	薛晓宇	东北师范大学物理实验室	1	8	1.0	1.0