粉末冶金Ti-Al合金表面多孔氧化膜的制备

• 作者: 曹华珍 朱施利 董虹星 贺跃辉 郑国渠
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: Ti-Al合金 阳极氧化 多孔氧化膜
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 49-53
• 页数: 5页
• 分类号: TQI53.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2010.01.009

摘要

以含CrO3的氢氟酸水溶液为电解液,采用阳极氧化法于粉末冶金Ti-Al合金表面制各多孔氧化膜.采用场发射扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS)对多孔氧化膜的形貌和结构进行分析,研究电解液各组份及浓度、阳极氧化电压对多孔氧化膜的影响规律,并利用电化学测试技术探讨多孔氧化膜的成膜机理.结果表明:合金在不含CrO3的HF电解液中阳极氧化不能获得多孔氧化膜,而是发生严重的腐蚀溶解.电解液中HF浓度和电压均影响氧化膜的形貌,在HF含量为0.2%时可获得规则的多孔氧化膜,孔径在50 nm左右;当氧化电压为10 V时形成的多孔氧化膜规则性较好,电压增大时多孔氧化膜结构遭到破坏.氧化膜中主要含有无定型的TiO2、Al2O3以及少量晶态的Ti2O、单质Al.多孔氧化膜的生长过程包括阻挡层的形成、多孔氧化膜的初始形成和多孔氧化膜的稳定生长3个阶段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑国渠	浙江工业大学化学工程与材料学院	67	444	12.0	17.0
2	贺跃辉	中南大学粉末冶金国家重点实验室	295	3508	29.0	41.0
3	曹华珍	浙江工业大学化学工程与材料学院	53	347	10.0	16.0
4	董虹星	中南大学粉末冶金国家重点实验室	5	85	3.0	5.0
5	朱施利	浙江工业大学化学工程与材料学院	3	5	2.0	2.0