Ar/N2气体比例对ZrN/WTiN纳米多层膜的影响

• 作者: 李德军 王明霞
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 ZrN/WTiN多层膜 Ar/N2气体比例
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 31-34
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2010.03.007

摘要

选择ZrN和WTiN作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备ZrN,WTiN和一系列的ZrN/WTiN纳米多层薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)和纳米力学测试系统分析制备参数中Ar/N2气体比例对多层膜结构与机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于2种个体材料混合相的硬度值;当FAr∶FN2=5时,ZrN/WTiN纳米多层薄膜出现了ZrN(111),TiN(111)衍射峰和非晶态,多层膜体系的硬度、应力和弹性模量均达到最佳效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0