脉冲激光沉积制备TiN/AlN多层薄膜及其工艺研究

• 作者: 唐普洪 宋仁国 柴国钟 熊京远
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光烧蚀 多层膜 微观结构 TiN/AlN
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 41-43
• 分类号: TG174.445|TG156.95
• 字数: 2757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2010.02.023

摘要

本文采用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶硅试样表面上沉积制备了TiN/AlN多层硬质薄膜;研究了激光能量、靶衬距离和基体温度等工艺参数对薄膜性能的影响.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度仪方法研究了薄膜的性能.结果表明:薄膜由TiN和立方AlN细晶和无定型的非晶TiN、AlN组成,薄膜的调制周期尺寸均在λ=(50-200)nm范围内,多层结构界面清晰;当多层薄膜调制周期在100nm以下时,薄膜的显微硬度明显高于TiN和AlN的混合硬度值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柴国钟	浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室	93	654	15.0	22.0
2	宋仁国	浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室	47	682	14.0	25.0
3	唐普洪	浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室	18	38	3.0	5.0
5	熊京远	浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室	2	7	1.0	2.0