基于磁控溅射的金属氧化物气敏薄膜的研究进展

• 作者: 吴占雷 张茹 胡季帆 赵玛 韩周祥 魏剑英
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 薄膜 金属氧化物 气敏
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 39-44
• 分类号: TN304|TP212
• 字数: 5361字
• 语种: 中文

摘要

气体传感器的应用越来越广泛,对气敏材料的研究也越来越深入.磁控溅射法是生产气敏薄膜的一种主要方法,本文重点介绍了用磁控溅射法制备的几种金属氧化物薄膜(SnO2、WO3、ZnO、TiO2、In2O3和NiO等)的气敏性能及其研究进展,对其它薄膜做了简要概述,并提出了目前在气敏薄膜研究中存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏剑英	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	22	135	7.0	10.0
2	韩周祥	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	27	150	7.0	10.0
3	赵玛	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	18	116	7.0	9.0
4	胡季帆	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	11	68	5.0	8.0
5	吴占雷	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	4	8	2.0	2.0
6	张茹	郑州轻工业学院河南省表介面科学重点实验室	4	13	2.0	3.0