铝合金表面特性与微弧氧化膜层生长过程的相关性

• 作者: 时惠英 杨巍 蒋百灵 鲜林云
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 铝合金 微弧氧化 沉积层 阻抗 预制备膜
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 1767-1773
• 分类号: TG174
• 字数: 3657字
• 语种: 中文

摘要

利用扫描电镜(SEM)、X线光电子能谱仪(XPS)和IM6e电化学工作站等分析手段,探讨沉积层阻抗与微弧氧化膜层生长过程的相关性.研究结果表明:溶质离子参与沉积层的形成,并使其物质组成、微观结构以及阻抗产生较大差异,进而影响起弧时间和起弧电压;起弧后陶瓷层生长将依赖于基体铝向氧化铝的转变而使样品表面阻抗增大,有微量溶质离子被动参与成膜;铝合金表面预制备膜在起始阶段即增加样品的绝缘性,其种类和阻抗对微弧氧化起弧和生长过程影响均较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	时惠英	西安理工大学材料科学与工程学院	36	596	15.0	24.0
3	杨巍	西安理工大学材料科学与工程学院	10	201	8.0	10.0
4	鲜林云	西安理工大学材料科学与工程学院	5	87	4.0	5.0