两种新型双咔唑基席夫碱衍生物的合成及其光学性质

• 作者: 吴志超 吴杰颖 吴鹏 周虹屏 涂雨龙 甘小平 陈怡欣
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 咔唑 席夫碱 合成 光学性质
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 451-453,456
• 分类号: O621.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1511.2010.04.011

摘要

以N-乙基-3-甲酰基咔唑为原料,合成了两种新型的双咔唑基席夫碱衍生物--N1,N2-双(9-乙基咔唑-3-亚甲基)-1,2-乙二胺(1)和N1,N3-双(9-乙基咔唑-3-亚甲基)-1,3-丙二胺(2),其结构经1H NMR,IR和MS表征.用UV和单光子荧光光谱研究了1和2的线性光学性质.结果表明:1和2有望成为具有应用价值的发光材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴杰颖	安徽大学化学化工学院	94	387	10.0	15.0
2	周虹屏	安徽大学化学化工学院	37	123	7.0	10.0
3	吴志超	安徽大学化学化工学院	6	18	4.0	4.0
4	吴鹏	安徽大学化学化工学院	10	80	3.0	8.0
5	陈怡欣	安徽大学化学化工学院	1	4	1.0	1.0
6	涂雨龙	安徽大学化学化工学院	1	4	1.0	1.0