第P32届国际商标协会年会召开

• 来源期刊: 中国专利与商标
• 学科: 工学
• 关键词: 国际组织 P32 年会 协会 商标 国家工商行政管理总局 知识产权 业内人士
• 年，卷（期）: zgzlysb_2010,（3）
• 页码范围: 101-102
• 页数: 2页
• 分类号: TB852.1

摘要

2010年5月22日-26日，第P32届国际商标协会年会在美国波士顿召开。来自140多个国家的8，300多名知识产权业内人士参加了本届年会，其中有3，000多人来自美国本工，260多人来自中国。世界知识产权组织、欧洲内部市场协调局、中国国家工商行政管理总局、全球企业法律顾问协会等国际组织、政府机构也派出了代表团或代表参会，显示出CNTA年会的重要性和吸引力。