双脉冲工作时间对Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料电沉积的影响

• 作者: 徐瑞东 王军丽 王绍华 章俞之
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 双脉冲 Ni-W-P/CeO2-SiO2 纳米复合材料 电沉积 脉冲时间 沉积速率 显微硬度
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 34-37
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3396字
• 语种: 中文

摘要

通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层.在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5 A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电沉积的影响.采用能谱、硬度测试和扫描电镜等方法,对纳米复合材料沉积层的化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征.结果表明:当正、反向脉冲时间分别控制在300 ms和40 ms时,Ni-W-P基质金属轮廓清晰,晶粒细小而均匀,CeO2和SiO2纳米颗粒在基质金属中均匀弥散分布;沉积层的化学组成(质量分数)为:70.89%Ni,9.89%W,8.59%P,7.35%CeO2,2.81%SiO2;沉积速率为45.1μm/h,显微硬度为706 HV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐瑞东	昆明理工大学能源与冶金工程学院	80	734	16.0	22.0
2	王军丽	昆明理工大学分析测试研究中心	58	398	10.0	16.0
3	章俞之	中国科学院特种无机涂层重点实验室	15	214	10.0	14.0
4	王绍华	昆明理工大学分析测试研究中心	13	102	6.0	9.0