氢等离子体处理对类金刚石膜场发射性能的影响

• 作者: 夏义本 彭鸿雁 徐闰 王林军 罗玉杰 赵立新 金曾孙 陈宝玲 陈玉强 黄健
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 化学
• 关键词: 类金刚石膜 氢等离子体处理 场发射
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 317-320
• 分类号: O613.71
• 字数: 3272字
• 语种: 中文

摘要

采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响.结果表明:氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26 V/μm下降到19 V/μm.氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能.