高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析

• 作者: 丛树仁 姬荣斌 胡赞东 荣百炼 韩福忠
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 辉光放电质谱(GD-MS) 激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS) 痕量杂质测定 高纯碲和镉
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 226-230
• 分类号: TN215
• 字数: 3571字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010

摘要

采用辉光放电质谱(GD-MS)对碲、镉原材料中锂、硼、钠、铝、硅、铁、铜、锌、镓、砷,银、金,铅、铀等62个杂质元素进行了测试,并与激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)所测的结果进行比较,对结果差异的潜在因素、个别元素含量异常偏大的原因进行了系统分析,着重论述VG9000辉光放电质谱仪的特点及痕量杂质分析优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姬荣斌		50	200	7.0	10.0
2	胡赞东		6	23	3.0	4.0
3	韩福忠		19	61	5.0	6.0
4	荣百炼		7	43	3.0	6.0
5	丛树仁		1	9	1.0	1.0