合肥光源真空室内壁镀TiZrV吸气剂薄膜的研究

• 作者: 尉伟 张波 张玉方 李为民 王勇 王建平 范乐
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: TiZrV薄膜 非蒸散型吸气剂 直流磁控溅射 粒子加速器
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 39-42
• 分类号: TB741|TL503.7
• 字数: 2338字
• 语种: 中文

摘要

TiZrV合金在180℃下加热24 h即可激活,是迄今发现的激活温度最低的非蒸散型吸气剂,已在国外一些粒子加速器得到应用.采用直流磁控溅射法,氩气作为放电气体,成功的在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜.薄膜中TiZrV之比为3:3:4左右,位于"低激活温度区".利用三段一米长的螺线管串联所产生的磁场维持放电,完成了对三米长的波荡器真空室的镀TiZrV薄膜处理,并已安装在合肥光源储存环上,目前运行情况正常.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王勇	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	507	5142	33.0	48.0
2	张波	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	209	2133	20.0	38.0
3	尉伟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	21	104	7.0	9.0
4	王建平	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	1069	13.0	31.0
5	范乐	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	12	56	6.0	7.0
6	张玉方	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	4	23	3.0	4.0