溅射功率对Zr, Al共掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘云燕 刘汉法 张化福 王辉 袁玉珍
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Zr Al共掺杂 ZnO 溅射功率 透明导电薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 48-50,61
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TN304.055
• 字数: 2847字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.02.015

摘要

室温下,采用直流磁控溅射法,在载玻片衬底上制备出了Zr, Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜.研究了溅射功率对薄膜的组织结构、表面形貌和光电学性能的影响.结果表明,制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.当溅射功率为150 W时,薄膜电阻率达到最小值1.66×10~(-3) Ω·cm,在可见光区平均透过率超过93%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王辉	山东理工大学理学院	7	61	5.0	7.0
5	袁玉珍	山东理工大学理学院	26	159	7.0	11.0
6	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
7	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
8	刘云燕	山东理工大学理学院	16	111	6.0	10.0