直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究

• 作者: 吴志明 杜明军 王涛 罗振飞 蒋亚东 许向东
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: V2O5薄膜 衬底温度 磁控溅射 光学性能
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 531-535
• 分类号: TN305.92
• 字数: 4101字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2010.05.002

摘要

研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒(V2O5)薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见光分光光度计(UV1700)分别对薄膜进行了表征.实验结果表明,除了组分和晶态,薄膜的形貌和光学性能受衬底温度的影响很大.随着衬底温度的升高,膜表面变得粗糙,膜厚减小.光学特性测试表明,当衬底温度从160℃升高到320 ℃,光学带隙从2.39 eV下降到2.18 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	王涛	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	55	346	11.0	14.0
3	许向东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	15	68	6.0	8.0
4	罗振飞	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	25	3.0	5.0
5	杜明军	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	4	11	2.0	3.0