小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究

• 作者: 张以忱 陈旺 高士铁
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 磁控溅射 圆平面靶 数学模型 膜厚均匀性 转速比
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 21-26
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 字数: 4133字
• 语种: 中文

摘要

本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素.模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响.偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差.当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小.圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响.这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱		153	408	11.0	16.0
2	高士铁		1	9	1.0	1.0