旋转圆柱靶溅射沉积产额分布

• 作者: 孟秀清 尚航 池华敬 王双 章其初 陈革
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 旋转圆柱靶 孪生靶 溅射产额分布 磁控溅射 溅射气压
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 16-19
• 分类号: TB43
• 字数: 3335字
• 语种: 中文

摘要

采用数值计算模型,计算了旋转圆柱靶溅射产额分布.数值计算中假设从靶溅射出来的粒子服从余弦函数定律.计算得到的单靶溅射产额分布和Al靶在Ar气压0.4Pa测量得到的实验值基本相同.同时计算了孪生旋转圆柱靶的溅射产额分别与靶基距、靶间距,以及靶旋转角度的相关性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	池华敬	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	14	44	5.0	6.0
2	陈革	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	18	123	5.0	11.0
3	章其初	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	16	121	5.0	10.0
4	王双	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	13	44	5.0	6.0
5	孟秀清	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	3	32	2.0	3.0
6	尚航	皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所	1	2	1.0	1.0