溶液pH对电沉积氧化亚铜薄膜的影响

• 作者: 刘建成 吴坚强 罗凌虹 胡澄清 胡飞
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化亚铜 薄膜 电沉积 pH 择优取向 光学性能
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: 电沉积技术
• 页码范围: 4-7
• 分类号: O614
• 字数: 3024字
• 语种: 中文

摘要

采用醋酸铜-醋酸钠酸性溶液和硫酸铜-乳酸碱性溶液,分析了不同pH下电沉积Cu2O薄膜的形貌及结构,讨论了镀液体系及溶液pH对Cu2O薄膜生长的影响,测定了不同形貌的Cu2O薄膜的光学透射性能.结果表明,溶液的氢氧根、羧基、羟基中的氧原子会影响Cu2O薄膜的结构及形貌.酸性溶液中,Cu2O薄膜易形成混晶结构;而碱性溶液中,随着pH的变化,Cu2O薄膜有不同的择优取向.酸性溶液中Cu2O薄膜形成网状结构,碱性溶液中易形成锥形结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴坚强		51	239	9.0	13.0
2	罗凌虹		99	297	9.0	11.0
3	胡飞		28	129	7.0	10.0
4	胡澄清		7	47	4.0	6.0
5	刘建成		6	45	2.0	6.0