铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响

• 作者: 彭福川 肖荣辉 赖发春 郑卫峰 郑明志
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 铜薄膜 膜厚 结构 光学性质 电学性质
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 49-53
• 分类号: O484
• 字数: 3234字
• 语种: 中文

摘要

采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性质.结果表明,可以将薄膜按厚度划分为Ⅰ区(0～11.5 nm)的岛状膜、Ⅱ区(11.5～32 nm)的网状膜和Ⅲ区(＞32.0 nm)的连续膜.薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在Ⅰ、Ⅲ区时增加,Ⅱ区时减小.薄膜电阻在Ⅰ区时无法测量,在Ⅱ区随膜厚的增加急剧下降,而在Ⅲ区时随膜厚增加缓慢减小.薄膜的光学吸收与其表面粗糙度密切相关,其变化规律与表面粗糙度的变化相一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖荣辉	三明学院物理与机电工程系	16	46	4.0	6.0
3	赖发春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	37	216	8.0	13.0
4	郑卫峰	福建师范大学物理与光电信息科技学院	40	61	5.0	6.0
7	郑明志	福建师范大学物理与光电信息科技学院	5	17	3.0	4.0
8	彭福川	福建师范大学物理与光电信息科技学院	5	20	3.0	4.0