强磁场对纯铁渗碳的影响

• 作者: 佟伟平 张辉 苏楠子 赫冀成
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 强磁场 渗碳 纯铁 Fe3C
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 32-35
• 分类号: TG156.97
• 字数: 1899字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1690.2010.04.006

摘要

研究了稳恒磁场(0 T、1 T和12 T)对纯铁渗碳行为的影响.试验发现,当磁场方向与渗碳表面垂直时,施加强磁场将促进渗碳过程的进行,且随着磁场强度的增加,这种促进作用增强;当磁场方向与渗碳表面平行时,施加磁场则抑制渗碳过程,且随着磁场强度的增加,其抑制程度也加强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赫冀成	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	320	2811	26.0	36.0
2	佟伟平	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	15	49	4.0	6.0
3	张辉	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	22	201	9.0	13.0
4	苏楠子	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0