HFCVD金刚石薄膜表面的氨基修饰方法

• 作者: 安云玲 常明
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石薄膜 化学修饰 氨基 X射线光电子能谱(XPS) 应用
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 73-75,83
• 页数: 4页
• 分类号: O646
• 字数: 2517字
• 语种: 中文

摘要

金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp~3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要.本文从化学修饰角度,概括和总结了氨基在金刚石薄膜表面导入的一种新的简单方法,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征.结果表明,氨基已成功的修饰到了金刚石薄膜表面.最后对氨基修饰后的金刚石薄膜的应用做了简单的介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常明		2	7	2.0	2.0
2	安云玲		1	5	1.0	1.0