工件台偏压对非平衡磁控溅射沉积MoS2-Ti薄膜的结构与性能影响

• 作者: 万志华 周晖 桑瑞鹏 温庆平 郑军
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 MoS2-Ti复合薄膜 工件台偏压 结构和性能
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 28-32
• 分类号: TH117
• 字数: 2510字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2010.04.007

摘要

采用非平衡磁控溅射技术制备MoS2-Ti薄膜,研究工件台偏压对薄膜结构和性能的影响.利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的厚度、硬度以及膜与基体的结合力,采用球-盘摩擦磨损试验机评价薄膜在真空环境下的摩擦学性能.结果表明:MoS2-Ti薄膜具有明显的(002)优势取向,薄膜中S、Mo原子比及膜厚随偏压的增加而减小,薄膜硬度及膜-基体附着力随偏压的增加而增大,薄膜在真空环境中的平均摩擦因数为0.02,受偏压影响不明显,薄膜寿命受偏压影响明显,当偏压在-100 V内变化时薄膜具有较长的寿命且随偏压的增加而增长,偏压继续增大薄膜耐磨寿命下降明显,当偏压为-200 V时薄膜不具备润滑性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周晖	兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室	13	139	6.0	11.0
2	万志华	兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室	10	46	5.0	6.0
3	郑军	兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室	8	26	3.0	4.0
4	桑瑞鹏	兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室	8	42	4.0	6.0
5	温庆平	兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室	11	124	5.0	11.0