羧基化碳纳米管修饰碳糊电极伏安法测定痕量铝

• 作者: 冯泳兰 屈景年 曾荣英 李俊华 邝代治
• 来源期刊: 冶金分析
• 学科: 化学
• 关键词: 碳糊电极 阳极吸附伏安法 铝 铬蓝黑R
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 18-22
• 分类号: O657.14
• 字数: 3771字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7571.2010.09.004

摘要

以羧基化多壁碳纳米管(c-MWCNT)修饰的碳糊电极为工作电极,建立了一种无汞测定痕量铝的新方法.在0.1 mol/L的HAc-NaAc电解液(pH 5.2)中,铬蓝黑R(EBBR)在羧基化多壁碳纳米管修饰碳糊电极表面上进行阳极扫描时出现4个溶出峰,其峰电位分别为12mV、130 mV、390 mV、594 mV,加入Al3+后第二个波峰电流明显增加,其它峰电流基本不变.该峰属络合物吸附峰,利用该峰可以进行痕量铝的检测.当电位扫速为350 mV/s、富集时间为180 s时,峰电流与铝浓度在2.0×10-9～5.0×10-7 mol/L的范围内呈良好线性关系,其相关系数为0.996,检出限可达1.0×10-9 mol/L.该法用于铝壶水样中铝含量的测定,回收率在98%～105%之间.