奥氏体不锈钢活性屏低温离子渗碳工艺研究

• 作者: 王建青 王璐璐 赵程
• 来源期刊: 武汉科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 奥氏体不锈钢 活性屏离子渗碳 纳米粒子 Sc相
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 388-392
• 分类号: TG156.8
• 字数: 2608字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-3644.2010.04.012

摘要

利用活性屏离子热处理技术对奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳(ASPC)处理,可以在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc相).ASPC可以在不降低奥氏体不锈钢耐蚀性能的前提下大幅度提高其表面硬度,并解决了不锈钢直流离子渗碳温度均匀性差、工件存在边缘效应等问题,渗碳试样表面基本可以保持不锈钢原色.通过对活性屏上溅射下来的纳米粒子进行显微分析表明,这些粒子是Fe3C、Fe2C5 中性粒子,其在ASPC中起到渗碳载体的作用,ASPC是一个溅射-吸附-脱附的过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵程	青岛科技大学机电工程学院	91	740	14.0	21.0
2	王建青	青岛科技大学机电工程学院	7	46	4.0	6.0
3	王璐璐	青岛科技大学机电工程学院	5	20	3.0	4.0