Ti离子注入对石英玻璃表面金属化的影响

• 作者: 崔新强 李国卿 李海兵 蒋宝财
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti离子 离子注入 镀Ti膜石英玻璃 结合强度
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 48-50,55
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.014

摘要

为提高石英玻璃表面金属化膜层与基底的结合强度,利用金属蒸发真空弧(MEVVA)离子源引出的Ti离子对石英玻璃及镀Ti膜石英玻璃进行离子注入,剂量选择3×10~(16),5×10~(16) ion/cm~2,模拟分析了注入离子能量的分布,采用卢瑟福背散射分析了注入Ti离子在基体中的深度分布,利用划痕实验机对比了镀Ti膜石英玻璃经Ti离子注入前后的膜基结合强度.实验结果表明:石英玻璃经Ti离子(5×10~(16) ion/cm~2)注入后,钛在基体中呈高斯分布,最大浓度分布在15～35 nm范围内;镀Ti膜石英玻璃经Ti离子(5×10~(16) ion/cm~2)注入后,最大浓度分布在5～15 nm范围内,注入离子穿透薄膜进入基材内部.Ti离子注入剂量为5×10~(16) ion/cm~2时,膜基的结合强度比未注入样品提高了90%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国卿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
2	崔新强		1	6	1.0	1.0
3	李海兵		1	6	1.0	1.0
4	蒋宝财		1	6	1.0	1.0