LiF修饰阴极的双层有机电致发光器件的延时效应

• 作者: 徐仁伯 李宏建 李雪勇 熊志勇 王俊西
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电致发光延时 注入势垒 内界面势垒 LiF修饰
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 17-24
• 页数: 8页
• 分类号: TN383.1|TN873.3
• 字数: 6163字
• 语种: 中文

摘要

基于载流子的注入、传输和复合过程, 建立了双层有机发光器件的电致发光延时理论模型;讨论了电致发光延时随电压、注入势垒、内界面势垒、阳极区厚度及LiF缓冲层(BL)厚度的变化关系. 结果表明:(1)低电压下,EL延时由复合过程主导,而高电压下,输运过程起着更重要的作用;(2)当δ_e/δ_h＜2时,M/O界面属于欧姆接触,电流是空间电荷限制的,注入势垒的变化对复合时间t_(rec)影响较大,当δ_e/δ_h＞2时,M/O界面成为接触限制,注入势垒的变化对t_(rec)几乎没有影响;(3)当内界面势垒超过0.3 eV,H′ _h对t_(rec)的影响明显变弱,复合延迟时间基本上由电压和其它因素控制;(4)当电压较小时,随L_h/L的增大,t_(rec)增大;当电压超过某一值后,t_(rec)几乎不随L_h/L的变化而变化;(5)对于LiF/Ag阴极,在不同的偏压下, LiF的厚度在3.1 nm左右时的复合时间最短,对应的EL延迟时间也最短,这与实验中从电致发光效率的角度得出的LiF最佳厚度一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宏建	中南大学物理科学与技术学院	51	208	8.0	11.0
5	熊志勇	中南大学物理科学与技术学院	5	22	3.0	4.0
6	王俊西	中南大学物理科学与技术学院	4	21	3.0	4.0
7	李雪勇	中南大学材料科学与工程学院	6	41	3.0	6.0
8	徐仁伯	中南大学材料科学与工程学院	6	21	3.0	4.0