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对流-扩散传质对微电铸镀层均匀性的影响
对流-扩散传质对微电铸镀层均匀性的影响
作者:
丁桂甫
李光杨
汪红
王艳
赵小林
陈晖
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微电铸
对流-扩散传质
渗透流
回流
摘要:
利用有限元分析软件FLUENT对MEMS微电铸镀层均匀性进行了分析.对当物质传输成为金属沉积的控制步骤时,进行对流-扩散传质过程数值模拟,研究不同深宽比微结构中对流-扩散对传质的影响.模拟结果表明:当对流-扩散传质成为控制步骤时,渗透流影响镀层基本形貌,回流会引起镀层形貌的微小起伏.
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文献信息
篇名
对流-扩散传质对微电铸镀层均匀性的影响
来源期刊
传感器与微系统
学科
工学
关键词
微电铸
对流-扩散传质
渗透流
回流
年,卷(期)
2010,(8)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
41-43,47
页数
分类号
TQ153
字数
3290字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-9787.2010.08.013
五维指标
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对流-扩散传质
渗透流
回流
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感器与微系统
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-9787
CN:
23-1537/TN
开本:
大16开
出版地:
哈尔滨市南岗区一曼街29号
邮发代号:
14-203
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
9750
总下载数(次)
43
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