同质缓冲层厚度对掺铝氧化锌薄膜性能的影响

• 作者: 宋淑梅 张平 杨斌 杨田林 王连杰
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: AZO 同质缓冲层 厚度 方块电阻 透过率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 2579字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.01.008

摘要

室温下,采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备具有同质缓冲层的ZnO:Al(AZO)薄膜.用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针探测仪等对薄膜的结构和光电性能进行了研究.结果表明:当薄膜总厚度为400 nm时,制备具有66 nm同质缓冲层的AZO薄膜的方块电阻为26 Ω·□~(-1),与单层AZO(400 nm)薄膜的方块电阻(63 Ω·□~(-1))相比,下降了59%,其在可见光范围内的平均透过率为91%.