谷田杂草化学防除面临的问题及发展趋势

• 作者: 任中秋 刘环 周汉章 寇俊杰 杨万桥
• 来源期刊: 河北农业科学
• 学科: 农学
• 关键词: 谷子 杂草 除草剂 44％单嘧·扑灭WP 化学除草 发展趋势
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 56-58
• 分类号: S451.22
• 字数: 4289字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1088-1631.2010.11.020

摘要

结合谷田杂草发生状况、化学除草以及谷子生产现状,综合分析了谷田化学除草应注意的事项、存在的主要问题和对策,探讨了谷田化学除草和除草剂的发展趋势.谷田化学除草的发展趋势为以高效除草剂44%谷友(单嘧·扑灭)WP为主导,以44%单嘧·扑灭WP+懒谷3号+间苗剂为主要模式,逐渐过渡到以灭生性除草剂+抗除草剂谷子品种为主要模式.谷田杂草治理向综合防治方向发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	寇俊杰	南开大学农药国家工程研究中心	18	215	6.0	14.0
2	周汉章	河北省农林科学院谷子研究所河北省杂粮研究实验室	16	113	4.0	10.0
3	任中秋	河北省农林科学院谷子研究所河北省杂粮研究实验室	7	105	4.0	7.0
4	杨万桥		1	53	1.0	1.0