TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺

• 作者: 刘宏宇 张卓 徐征 李文波 王刚 胡望 邵喜斌
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模版 薄膜晶体管液晶显示器 阵列工艺 技术进展 市场行情
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(光刻技术)
• 页码范围: 522-526,559
• 分类号: TN321.5|TN305.6
• 字数: 3798字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.06.002

摘要

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势.各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击.在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中.通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卓	京东方科技集团股份有限公司技术研发中心	5	58	4.0	5.0
2	邵喜斌	京东方科技集团股份有限公司技术研发中心	11	116	6.0	10.0
3	王刚	京东方科技集团股份有限公司技术研发中心	8	108	5.0	8.0
4	李文波	北京交通大学光电子技术研究所	2	38	2.0	2.0
8	胡望	京东方科技集团股份有限公司技术研发中心	1	21	1.0	1.0
9	刘宏宇	京东方科技集团股份有限公司技术研发中心	1	21	1.0	1.0