沉积速率对HfO2薄膜应力和光学特性的影响

• 作者: 吴福全 吴闻迪 王庆 郝殿中 齐瑞云
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力 沉积速率 微结构 折射率
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 77-80
• 分类号: O484.4
• 字数: 1848字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2010.04.016

摘要

利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3(A)/s、5.5(A)/s和9.6(A)/s. 利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试. 结果表明:在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构. 样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3(A)/s时应力最小. 不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3(A)/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度. 这些结果为制备高性能HfO2薄膜提供参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	齐瑞云	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	3	0	0.0	0.0
2	吴福全	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	8	5	2.0	2.0
3	郝殿中	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	11	6	2.0	2.0
4	王庆	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	7	2	1.0	1.0
5	吴闻迪	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	3	0	0.0	0.0