闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究

• 作者: 梁柔 王英芹 贺志勇 贺耀华 鲍明东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 离子镀 离化率 偏流密度
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 24-26
• 分类号: TB43
• 字数: 2981字
• 语种: 中文

摘要

应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统,研究了溅射靶电流、偏压和Ar流量对偏流密度的影响.结果表明.偏流密度随着偏压和靶电流的升高而增大,但随偏压的提高偏流密度的增加趋势趋于平缓;偏流密度随着Ar流量的增大而出现峰值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺志勇	太原理工大学表面工程研究所	72	696	15.0	23.0
2	鲍明东	宁波工程学院材料工程研究所	29	102	6.0	8.0
3	王英芹	太原理工大学表面工程研究所	6	26	4.0	5.0
4	贺耀华	太原理工大学表面工程研究所	6	26	4.0	4.0
8	梁柔	宁波工程学院材料工程研究所	2	15	2.0	2.0