多能点X射线透射光栅的制作技术

• 作者: 刘明 吴秀龙 朱效立 潘一鸣 胡昕 谢常青 陈军宁 陈国太
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线透射光栅 电子束曝光 邻近效应校正 微电镀 自支撑透射光栅
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 45-49
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2335字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.01.010

摘要

针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用,采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术,成功制备了周期为500 nm、金吸收体厚度为350 nm、占空比接近1:1,满足三个能点成像需求的2 000 lp/mm X射线自支撑透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备金光栅图形,然后采用紫外光刻和微电镀技术制作自支撑结构,最后通过腐蚀体硅和感应耦合等离子体刻蚀聚酰亚胺完成X射线自支撑透射光栅的制作.在电子束光刻中,采用几何校正和高反差电子束抗蚀剂实现了对纳米尺度光栅图形的精确控制.实验结果表明,同一个器件分布的三块光栅占空比合理,栅线平滑,可以满足单能点单色成像谱仪的要求.