利用脉冲激光沉积法制备高Mg掺杂的六方相MgZnO薄膜

• 作者: 吕有明 曹培江 朱德亮 柳文军 贾芳 陈吉星 马晓翠
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 MgZnO薄膜 光学性能
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 223-226
• 分类号: O472.3
• 字数: 2576字
• 语种: 中文

摘要

选用Mg0.2Zn0.8O陶瓷靶,利用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶Si(100)和石英衬底上生长了一系列MgZnO薄膜(MZO).通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)和紫外可见光透射光谱(UV-Vis)等实验手段,研究了在不同工作压强下生长的薄膜样品的晶体结构、微观形貌和光学性能的变化.结果表明:所有的薄膜样品都是单一的ZnO六方相,禁带宽度随生长压强的升高而增加,变化范围在3.83～4.05 eV之间,最短吸收边接近300 nm.