KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究

• 作者: 何小凤 李智慧 李运刚
• 来源期刊: 有色金属（冶炼部分）
• 学科: 工学
• 关键词: SiO2 KCl-NaCl-NaF 循环伏安法 计时电位法
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 轻有色金属
• 页码范围: 24-26,41
• 分类号: TF82
• 字数: 1563字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7545.2010.02.007

摘要

在KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中,以铂丝为参比电极、研究电极,高纯石墨坩埚为辅助电极,采用循环伏安法和计时电位法对硅离子的还原机理进行了研究,结果表明此电化学反应为扩散控制的不可逆电极过程;求得硅离子在熔盐中的扩散系数D=1.33×10-3 cm2/s(CSi4+=1.21×10-4 mol/cm3,T=1 073 K).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李智慧		14	160	8.0	12.0
2	李运刚		60	736	15.0	21.0
3	何小凤		9	155	8.0	9.0