镍硅颗粒膜的表面传导电子发射特性

• 作者: 张玉娟 梁海锋
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 镍硅颗粒膜 电形成 发射电流 场致发射
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 19-22
• 分类号: O462.4
• 字数: 3549字
• 语种: 中文

摘要

本文提出采用镍硅颗粒薄膜作为表面传导电子发射显示的发射体材料,通过光刻和磁控溅射在两电极(10μm间隙)之间制备30 nm厚的镍硅颗粒膜.施加三角波电压进行电形成工艺,并测试了器件的电学特性.获得主要结果有,在器件阳极电压2000 V和器件阴极电压13 V的作用下,可以重复探测到稳定的器件发射电流,并且随器件阴极电压的增加而明显增加,最大的发射电流达到了1.84μA(共18个单元);电形成过程中,单个发射体单元的薄膜电阻从13 Ω增加到10913 Ω;通过对器件发射电流的Fowler-Nordheim结分析,可以确定电子发射机理属于场致电子发射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁海锋	西安工业大学光电工程学院	35	180	7.0	12.0
2	张玉娟	西安交通大学电子与信息工程学院	4	11	2.0	3.0