磁控溅射氧化钛薄膜在不同溅射温度下的光电性能研究

• 作者: 吴志明 姜晶 居勇峰 罗振飞 蒋亚东 邱永龙
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钛薄膜 溅射温度 直流反应溅射 光电性能
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 536-540
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2010.05.003

摘要

通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜.通过对其光电性能的分析测试,探讨了溅射温度对氧化钛薄膜性能的影响.实验表明:低温溅射下,薄膜表面颗粒较小,结构较为疏松,高温溅射下,薄膜颗粒较大,薄膜表面颗粒出现团聚现象;随着溅射温度的升高,溅射速率减小;薄膜方阻减小,载流子浓度增大;溅射温度越高,薄膜在紫外可见光波段内透射越弱,光学带隙越小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	居勇峰	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	21	3.0	4.0
3	姜晶	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	99	4.0	6.0
4	罗振飞	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	25	3.0	5.0
5	邱永龙	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	3	1.0	1.0