偏压对GLC镀层的结构及应力的影响研究

• 作者: 严富学 殷鹏 白力静
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: GLC薄膜 薄膜应力 偏压
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 28-30
• 分类号: TG174.45
• 字数: 2323字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.009

摘要

采用磁控溅射离子镀技术制备了类石墨镀层(GLC),利用扫描电子显微镜(SEM)测量了镀层的厚度、X射线衍射仪(XRD)研究了材料的物相和应力,并结合透射电子显微镜(TEM)观察和分析了材料的组织结构.研究结果表明:不同偏压下得到的镀层结构相同,均为非晶为主的类石墨镀层,并且随着偏压增大,膜厚逐渐减小;在所研究的偏压下,应力变化规律是随着偏压的增加,样品与基体的复合应力先增大,后减小,其中-65V时达到最大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白力静		55	796	14.0	27.0
2	严富学		10	35	4.0	5.0
3	殷鹏		2	9	2.0	2.0