SiO2和HfO2薄膜光学性能的椭偏光谱测量

• 作者: 吴倩 潘峰 王震 罗晋 陈松林 马平
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光学参数 椭偏测量 光谱
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 光电测量
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: O436
• 字数: 2074字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2010.02.013

摘要

结合XRD和原子力显微镜等方法,利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO2薄膜(K9基片)和单层HfO2薄膜(K9基片)的椭偏参数,并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合,获得了SiO2薄膜和HfO2薄膜在300～800 nm波段内的色散关系.用X射线衍射仪确定薄膜结构,并用原子力显微镜观察薄膜的微观形貌,分析表明:SiO2薄膜晶相结构呈现无定型结构,HfO2薄膜的晶相结构呈现单斜相结构;薄膜光学常数的大小和薄膜的表面形貌有关;Sellmeier和Cauchy模型较好地描述了该波段内薄膜的光学性能,并得到薄膜的折射率和消光系数等光学常数随波长的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈松林		23	92	6.0	7.0
2	罗晋		11	83	5.0	9.0
3	潘峰		11	33	3.0	4.0
4	马平		54	355	11.0	15.0
5	吴倩		5	13	2.0	3.0
6	王震		8	24	3.0	4.0