溅射工作气压对Fe/Si_3N_4多层膜微波磁性的影响

• 作者: 杨长胜 程海峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射气压 多层膜 磁控溅射 磁导率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 22-27
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 字数: 4915字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.01.05

摘要

在不同的溅射气压下,采用连续磁控溅射制备了Fe/Si_3N_4多层膜,探讨了溅射气压对多层膜微波磁性的影响.研究发现,溅射气压影响着多层膜的沉积速率和微结构,在溅射铁子层时,Ar气流量控制在300sccm～400sccm下,在溅射氮化硅子层时,氩气与氮气的流量控制在2∶1,总流量控制在320sccm时制备得到的多层膜具有最好的磁性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程海峰	国防科技大学新型陶瓷纤维及复合材料国防科技重点实验室	109	1599	24.0	33.0
2	杨长胜	海军装备研究院航空装备论证研究所	7	20	3.0	4.0