拓展与回归——中央美术学院版画系与意大利2RC版画工坊合作项目综述

• 作者: 李帆
• 来源期刊: 美术研究
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 85
• 页数: 1页
• 语种: 中文

摘要

中央美术学院、意大利著名版画工坊2RC的项目合作,目的是借助意大利2RC版画工坊体制提高学院版画技师的技能,完善提升版画技师的素质,重新认知版画技师在版面发展中的重要性.同时,更加明晰艺术家与版画技师的关系、版画与商业合作的方法,对版画系技术工作室教学的发展都具有前瞻性的意义.2RC·CAFA版画工坊在中国的建立,意味着以当代版画工坊的运作模式纳入教学,提升版画艺术应有的地位,它将开启2RC工作室与中央美术学院合作的未来.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李帆	中央美术学院版画系	4	1	1.0	1.0