黑硅制备技术及其应用的研究进展

• 作者: 屠海令 常青 徐文婷 肖清华
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 黑硅 微结构 反射率
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 930-935
• 分类号: TN304.1
• 字数: 3273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2010.06.026

摘要

基于黑硅材料的发展,讨论了国内外在黑硅制备技术方面的研究进展,包括反应离子刻蚀法、飞秒激光脉冲法、电化学刻蚀法及金属辅助刻蚀法,总结了各种工艺在应用上的特点,对黑硅材料当前取得的应用及发展进行了综述.结果表明:黑硅材料的特殊结构能够极大降低硅表面光反射,有效提高硅太阳能电池转换效率;其特殊光敏性可应用于光波探测器;表面各向异性的黑硅在红外吸收中可以产生太赫兹辐射.当前飞秒激光脉冲法制备的黑硅材料体现了很好的光敏性,并且有望直接嵌入目前半导体制造工艺,因此备受青睐,然则其制备成本较高;相比之下,电化学刻蚀法则设备简单、成本较低,亦颇具研究前景.最后,展望了国内黑硅材料的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	屠海令		42	224	8.0	12.0
2	肖清华		8	72	5.0	8.0
3	常青		4	26	2.0	4.0
4	徐文婷		5	42	3.0	5.0