CVD-SiC在不同气氛中的叠加氧化行为

• 作者: 刘小冲 成来飞 栾新刚 罗茜
• 来源期刊: 玻璃钢/复合材料
• 学科: 工学
• 关键词: CVD-SiC 叠加氧化 水氧氧化
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: TB33
• 字数: 2563字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-0999.2010.02.005

摘要

采用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备了CVD-SiC陶瓷基片并在1500℃空气中进行预氧化处理,对比研究了预氧化前后CVD-SiC分别在1100、1300和1500℃静态水氧耦合环境下的氧化行为.采用扫描电子显微镜和X-射线衍射分析不同叠加氧化温度条件下表面形貌和物相演变规律.结果表明,预氧化后氧化(叠加氧化)和预氧化前氧化(水氧氧化)具有相似的氧化机理,均呈现出典型的抛物线型模式,两者的活化能分别为116kJ/mol和98.9 kJ/mol.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	成来飞	西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室	259	2656	22.0	40.0
2	刘小冲	西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室	6	34	4.0	5.0
3	罗茜	西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室	2	12	1.0	2.0
4	栾新刚	西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室	27	150	8.0	11.0