氧氮比对真空电弧沉积TiO2-xNx薄膜结构和性能的影响

• 作者: 成晓玲 曾鹏 胡永俊 胡社军 魏志钢
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2-xNx 氧氮比 微观结构 光催化活性 抗菌活性
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 557-562
• 分类号: TF823
• 字数: 3674字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2010.04.016

摘要

采用真空电弧沉积技术在玻璃上制备了N掺杂TiO2复合薄膜.通过X射线电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRO)、紫外可见光谱(UV-Vis)等测试技术研究了沉积过程中氧氮比对TiO2-xNx薄膜结构和性能的影响.实验结果表明,经500℃退火后的TiO2-xNx薄膜均为锐钛矿相,N原子在TiO2网络结构中以取代O原子的形式存在.TiO2-xNx复合薄膜在400～800 nm可见光区的透过率达60%,随着氮含量的增加,吸收边发生红移.在可见光下对酸性品红的降解表明TiO2-xNx薄膜具有可见光活性,随氧氮比的降低可见光催化活性逐渐增强.经自然光照射2 h,不同氧氮比制备的TiO2-xNx薄膜对大肠杆菌、金黄葡萄球菌的杀菌率均达99%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾鹏	广东工业大学轻工化工学院	64	572	13.0	20.0
2	胡社军	广东工业大学材料与能源学院	66	842	14.0	26.0
3	胡永俊	广东工业大学轻工化工学院	23	67	5.0	8.0
4	成晓玲	五邑大学物理系	1	3	1.0	1.0
5	魏志钢	五邑大学物理系	1	3	1.0	1.0