准分子真空紫外改善材料表面结构与性能的研究

• 作者: 刘安华 李建雄 李阳洋
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 真空紫外 表面改性 氧化铜还原 表面清洗 表面活化
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 421-427
• 分类号: TB303
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2010.04.044

摘要

简述了准分子VUV光源及反应器的结构与特点,用氙172 nm真空紫外灯在不同气氛条件下照射氧化铜片、聚丙烯板(PP)、镀金薄膜,以光电子能谱、全反射红外光谱等分析材料表面,研究材料表面结构与性能的变化.结果表明,控制反应气氛,室温下172 nm VUV即可清除铜片表面的污染物,还原铜片表面的氧化膜及活化镀金薄膜,在PP表面引入羟基或羰基,能有效地改善材料的表面性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘安华	华南理工大学材料科学与工程学院	92	1098	18.0	28.0
2	李建雄	华南理工大学材料科学与工程学院	33	156	7.0	11.0
3	李阳洋	华南理工大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0