Al2O3:Ce3+薄膜发光特性研究

• 作者: 仪登利 熊晓航 闫绍峰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 光致发光 Al2O3 非晶薄膜 磁控溅射 稀土元素
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 45-48
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 1709字
• 语种: 中文

摘要

用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜.这些薄膜的光致发光峰是在370～395 nm之间,它来自于Ce3+离子的5d'激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁.发光强度依赖于薄膜的掺杂浓度,并分析了产生这种关系的原因.Al2O3:Ce3+非晶薄膜发光特性在平板显示等领域有着广泛潜在的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫绍峰	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	55	164	8.0	10.0
2	仪登利	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	17	43	3.0	6.0
3	熊晓航	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	28	109	6.0	9.0