光催化剂改性及外场耦合光催化研究进展

• 作者: 刘广军 司崇殿 陈万东 高洪涛
• 来源期刊: 水处理技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光催化剂 改性 外场 光催化降解
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 综述与述评
• 页码范围: 23-28
• 页数: 6页
• 分类号: TQ031.7
• 字数: 6889字
• 语种: 中文

摘要

介绍了光催化剂改性和外场耦合光催化技术研究进展.光催化刺改性主要围绕金属离子掺杂、非金属掺杂、半导体复合和表面修饰展开,光催化剂制备方法多样化将是今后的发展方向.揭示了超声波场,磁场、电场和微波场等外场耦合光催化反应机理,其中复合场耦合光催化技术和新型光催化反应器设计成为未来应用外场耦合光催化降解有机污染物的研究重点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	司崇殿	济宁学院化学与化工系	7	46	4.0	6.0
2	高洪涛	济宁学院化学与化工系	8	39	5.0	6.0
3	陈万东	济宁学院化学与化工系	4	46	4.0	4.0
4	刘广军	济宁学院化学与化工系	7	32	4.0	5.0