非晶Ni-Al阻挡层对快速退火制备的硅基Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜结构及物性影响的研究

• 作者: 刘保亭 周阳 娄建忠 孙杰 陈江恩
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: BST薄膜 非晶Ni-Al阻挡层 快速退火 导电机制
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 318-323
• 分类号: O484
• 字数: 3012字
• 语种: 中文

摘要

应用非晶Ni-Al薄膜作为扩散阻挡层,采用磁控溅射法和溶胶-凝胶法在Pt/TiO2/SiO2/Si(001)衬底上制备了Pt/Ni-Al/Ba0.6Sr0.4TiO3/Ni-Al/Pt电容器结构,研究了在650～800 ℃温度范围内快速退火(RTA)工艺对电容器结构和物理性能的影响.结果表明:在外加电场为-100 kV/cm时,700 ℃和750 ℃退火样品的介电常数达到最大,分别为150和170.非晶Ni-Al薄膜的应用可以有效地降低BST薄膜的漏电流密度.650 ℃退火样品在整个测试电场范围内满足欧姆导电机制;700 ℃、750 ℃和800 ℃退火样品分别在电压低于-3.67 V、-2.65 V和-2.14 V时满足欧姆导电机制,在电压高于-3.67 V、-2.65 V和-2.14 V时满足普尔-弗兰克导电机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘保亭	河北大学物理科学与技术学院	84	302	10.0	13.0
2	孙杰	河北大学物理科学与技术学院	8	16	3.0	3.0
6	周阳	河北大学物理科学与技术学院	21	130	7.0	11.0
7	娄建忠	河北大学电子信息工程学院	25	64	5.0	6.0
8	陈江恩	河北大学电子信息工程学院	2	7	2.0	2.0