纳米SiO2催化六元羧酸对棉织物的抗皱整理研究

• 作者: 孙戒 庄玲华 汪海波 王国伟 袁爱琳
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 工学
• 关键词: 多元羧酸 抗皱整理 纳米SiO2 正交试验
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 21-23
• 分类号: TQ610.4+99
• 字数: 1763字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0439.2010.11.006

摘要

以六元羧酸DEMB(2,4-二甲基-戊烷-1,2,3,3,4,5-六羧酸)为原料,在纳米SiO2催化下,对纯棉织物进行抗皱整理.用正交试验分析得出了较佳处理条件:DEMB 6%;纳米SiO2 0.2%,140℃培烘120 s.在纳米SiO2催化下,经DEMB处理后棉织物的缓弹折皱回复角可达247°,白度由处理前的91.48降至87.36,强力保留率为90.6%.在相同试验条件下,比较DEMB、四元羧酸DEMA(戊烷-1,3,3,5-四羧酸)、BTCA(丁烷四羧酸)和CA(柠檬酸)的抗皱整理效果,结果表明:经DEMB处理过的棉织物强力和白度较BTCA、DEMA、CA都高,表明DEMB可用作棉织物的抗皱整理剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙戒	南京工业大学食品与轻工学院	15	76	5.0	8.0
2	汪海波	南京工业大学食品与轻工学院	25	71	5.0	7.0
3	王国伟	南京工业大学食品与轻工学院	20	90	5.0	8.0
4	袁爱琳	南京工业大学食品与轻工学院	9	25	3.0	5.0
5	庄玲华	南京工业大学理学院	9	47	4.0	6.0