氧化锆流延基片的制备

• 作者: 熊双峰 罗志安
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 氧化锆 流延成型 基片
• 年，卷（期）: 2010,（z2）
• 页码范围: 230-233
• 分类号: TF174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2010.z2.065

摘要

研究了工艺参数对氧化锆流延片制备影响.结果表明,当流延体系9＜pH＜11.5,分散剂用量为1.5wt％,黏结剂含量为5wt％,球磨混合12h的ZnO2浆料稳定,素坯质量好.在1500℃经3h烧结,烧结样品显微结构致密,相对密度达98％.