微弧氧化电流密度对ZL205A铝合金氧化膜层性能的影响

• 作者: 奚正平 李争显 李红战 杜继红 王培 高广睿
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: ZL205A铝舍金 微弧氧化 电流密度 耐磨
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 88-91
• 分类号: TG174.451
• 字数: 3237字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.05.025

摘要

采用微弧氧化技术,以ZL205A铝合金为基材,固定其它条件不变,只改变电流密度,制备多种氧化膜层,研究了电流密度对膜层的厚度、表面形貌、元素成分、相结构及耐磨性能的影响.结果表明:随电流密度的升高,膜层总厚度和致密层厚度均呈线性增长,同时膜层中的微孔直径增大,但数量减少;膜层的主要成分为Al-Si-O相,其含量随电流密度的增加而增加;氧化膜的磨损机制为磨粒磨损,电流密度对其摩擦因数的影响不大,但其耐磨性能随电流密度的增加而下降,这与外层疏松层的作用有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	奚正平		126	1831	22.0	34.0
2	高广睿		16	118	6.0	10.0
3	李争显		169	1281	19.0	26.0
4	杜继红		102	955	17.0	24.0
5	李红战		1	6	1.0	1.0
6	王培		18	87	6.0	8.0